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4.0

Tiefer V-Ausschnitt Applique Etui-Linie Kleid Staubige Rosa Patrisha Der gewagte hohe Schlitz fügt

SKU 95507446073
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Details

Description

Der gewagte hohe Schlitz fügt einen Hauch von Charme hinzu und schafft eine perfekte Balance aus Eleganz und modernem Stil

während die langen Ärmel einen raffinierten Touch verleihen

Ein fesselnder Schnürrücken ermöglicht es Ihnen

schafft es einen skurrilen und ätherischen Look

während die gerafften Details die schmeichelhafte Silhouette betonen

Tiefer V-Ausschnitt Applique Etui-Linie Kleid Staubige Rosa Patrisha Der gewagte hohe Schlitz fügtDas Kleid ist weiter mit funkelnden Strasssteinen verziert, strategisch platziert, um das Licht bei jeder Bewegung einzufangen und zu reflektieren. Entworfen, um Ihre Figur zu prsentieren, fllt die Etui Spalte Silhouette elegant und schafft einen eleganten und schmeichelhaften Look. Dieses Kleid ist perfekt fr diejenigen, die eine perfekte Balance aus zeitgenssischem Stil und zeitloser Raffinesse suchen. Silhouette: Etui Spalte Stoff: Jersey Saum:

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